PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经...

物理气相沉积（Physical Vapor Deposition， PVD)工艺是指采用物理方法，如真空蒸发、溅射 （Sputtering）镀膜、离子体镀膜和分子束外延等，在圆片表面形成薄膜。在超大规模集成电路产业中，使用最广泛的 PVD ...

1、DLC涂层背景及分类 类金刚石涂层(Diamond-like Carbon)或简称DLC涂层是含有金刚石结构（sp3键）和石墨结构（sp2键）的亚稳非晶态物质，碳原子主要以sp3和sp2杂化键结合。类金刚石涂层或简称DLC涂层...

等离子清洗是利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的...

PVD技术是制备薄膜材料的主要技术之一，膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色，并改善耐磨、耐腐蚀性，延长寿命。溅射镀膜和真空蒸发镀膜是最主流的两种 PVD 镀膜方式。 一、定义物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空...

   选择靶材种类、材质和气体(氮气、氧气、乙炔、甲烷、氩气等)，确定靶材及气体种类，然后调整气体比例、用量、溅射功率、溅射时间、基材处理温度、溅射温度、溅射时间等工艺参数，制备出颜色膜层，广泛应用于装饰性镀膜行业。靶材...